May 7, 2020

Алгоритм разработки ГИС

Гибридные микросхемы находят широкое применение в современной электронике. Эти микросхемы обладают рядом достоинств, среди которых можно отметить возможность использования разнообразных активных элементов, что позволяет создавать микросхемы с широким диапазоном выполняемых функций. Кроме того, элементы гибридных ИМС обладают высокой температурной и временной стабильностью.

Основными конструктивными элементами гибридных микросхем являются:

  • диэлектрическая подложка
  • пленочные резисторы, конденсаторы, индуктивности, проводники, контактные площадки
  • навесные полупроводниковые приборы (транзисторы, диоды, микросхемы), навесные пассивные элементы (конденсаторы с большой емкостью, трансформаторы, дроссели и т.д.).

Гибридная схема должна выполняться в виде функционально законченного узла, но допускать возможность контроля над параметрами.

Разработка ГИС производится в следующей последовательности:

  1. Производится анализ принципиальной электрической схемы устройства, отработанной в навесном исполнении с учетом особенностей и возможностей пленочной технологии: получения пленочных элементов необходимых номиналов с заданной точностью, пробивным напряжением, рассеиваемой мощностью и др. Учитываются параметры и конструкции активных элементов, надежность и экономические факторы.
  2. Сложные схемы с большим количеством напыляемых элементов разбиваются на несколько функциональных узлов (компоновка схемы). При этом учитывается необходимость наибольшей унификации ГИС.
  3. Разрабатывается конструкция ГИС
  4. Разрабатывается топология ГИС
  5. Оформляются чертежи ГИС
  6. Изготавливается экспериментальный образец
  7. Проводятся испытания ГИС, предусмотренные в технических условиях на изделие
  8. Производится корректировка технической документации

По принципиальной электрической схеме определяется перечень напыляемых элементов. В перечне приводятся сведения о номиналах, допусках, максимальной рассеиваемой мощности (для резисторов), максимальное напряжение (для конденсаторов). Расположение и размеры контактных площадок зависят от принятого способа контактирования или сварки, а также от расположения жестких выводов.

Назад к содержанию >>>