О маркетологах и технологиях
Большинство дебилов даже не понимает на сколько сложно производство микрочипов
Начнёт с производства оборудования для этого
600 нанометров - эта технология используется и сейчас для производства датчиков и дешёвых солнечных панелей.
Это не сложно - любой электронный микроскоп это может. Медленно но может.
Это уровень Pentium 100 или 16 мегабит памяти.
это уже требует промышленной базы более серьёзной
Однако это по прежднему не требует обязательно масок для экспозиции и доступно в ЕС в университетах для общего пользования .
250 нм это уже уровень Katmai - катриджных процессоров, 600 Мгц Пентиум 3 и 256 мегабит чипы.
В этом случае требуется уже постоянное поддержание производство лазеров, простейших ЧПУ, оптических линз. Постоянное.
Выращивать для этого кремний - но это совершенно не сложно. В СССР такой растили ещё в 1950х.
180 нм уже требует производства литографической маски. Однако дальше нет особой разницы 180 130 90.
Технологии там одного уровня - и даже больше - аргоновый лазер который начали использовать с 90 нм разработан раньше чем ксеновый который использовали на этих технологиях и используют. Кстати по этой технологии изготовляются солнечные батареи, IPS панели ( а их производителей очень мало в мире и лишь еденицы стран обладают этой технологией).
На 90 нм начали эксперементировать с литографией в жидкости это уже требует фтористого водорода а он не возможен без АЭС. то есть уже нужна технология АЭС.
Но интересно то что технологически в этом шаге на ксеноновом лазере не было необходимости. Можно было сразу использовать аргоновые лазера.
Если переход с 250 на 180 это серьёзная смена технологического процесса - смена поколения. То дальше таковым стало "иимерсивная литография" то есть лтография в жикости, а вовсе не смена лазера. В реальности сразу после 250 нм можно было бы перейти на 90 нм.Пять лет задержки 1998-2003 были сделаны сознательно - под азиатский финансовый кризис и сдувание Дотком Пузыря.
Технология 90 нм была полностью рабочая на аргоновом лазере уже в 1998 году. Но её придержали до 2003.
Можно было сразу же выпустить Athlon 64 - двухядерный конечно нет - но одноядерный да. Но было сделанокуча искуственных и не нужных шагов.
Кстати этой технологии заводы в РФ есть хотя и очень небольших обьёмов.
Уже тут есть технологический затык - что бы сделать дисплей или датчик или солнечную панель недостаточно просто оборудования - нужны знания как именно это делать - а их в РФ нет. Поэтому и клепают для оборонки и концлагеря. На большее им не дали дозволения.
Китаю дозволения тоже никто не давал а они сделали. От правителей зависит.
в производстве оборудования на ксеновом или на аргоновом лазере, сухой или жидкой литографии разницы в производстве литографов по технологическому уровню нет.
Тот кто может сделать литограф на 180 легко сделает и на 45 нм.
Но таких кстати не так много но всё таки не еденицы. И РФ в это число не входит. Китай же входит и прекрасно работает на своём оборудовании.
Да на 65 и на 45 нужен фтористый водород но это доступно любой стране с АЭС.
45 нм это уже достаточно просто нормальной даже поздне-советского типа страны. А вот РФ уже жопа. Только если позволят из-за бугра ибо не оборудования не знаний нет.
45 нм это точка самого дешёвого техпроцесса. А как же 90-130 ? Он тоже дёшев но лишь потому что сейчас используют старые фабрики. Много оборудования на вторичке. Но в реальности лучше потратиться на фтористый водород - выйдет все равно дешевле.
Разница между 90 иммерсивной и 45 иммерсивной есть в цене только для микрочипов, а вот для солнечных батарей или дисплеев часто разниц нет - а скорость производства в 4-6 раза выше.
И поэтому там где оборудование новое аргоновое и иммерсивная технология там делают всё по 90 нм. И только если есть острая необходимость спускаются ниже. Например производство микропроцессоров и систем на чипе ( я помню когда это называлось микрокомпьютер).
Но там 45 нм уже сейчас недостаточно - кроме космического применения - там 45 нм это минимальный рекомендуемый порог из-за рентгеновского излучения.
Собственно почему в спутниках РФ напихан один китай - 45 нм в РФ нет и не предвидится.
45 нм технология это к тому же последняя технология реальных нанометров - дальше идут ITRS "нанометры" Это как измерение расстояния между пикселяи в кинескопе по диагонали а не горизонтале. Чтобы написать меньше зернистость. Привет Панасонику.
Но всё таки они отражают некоторе реальные а не чисто маркетинговые параметры - просто измеренные с хитрецой. основные элементы уменьшаются не так сильно.
Есть очень хоршие литографы которые как например Nikon NSR-S635E могут меньше 45 нм на еденичном экспонировании - то есть на одной литографической матрице - он может 38 нм. Именно это и указано у него как опорное. Меньше которого уже требуется настоящая научная работа.
То есть любой клиент купив Nikon NSR-S635E может сразу же запустить из коробки производство 38 нм просто сделав чистую комнату и подклюсив систему. Это будет аргон, обычный кремний, обычный литографический состав обычная матрица.
Это доступно любой стране продажа в которую этого оборудования не запрещена.
32 нм 28 нм. - тут требуется наличие у персонала знаний как правильно сделать двойную экспозицию и требуется отчищенный Фтористый водород. СССР тут оставил задел который разрушить РФ не смог. Росатом делает такой водород - по старой советской технологии ( он используется и впроизводстве оружия). Он пригоден до 20 нм. Конечно на 20 нм, он грязнее японского, но всё таки ещё довольно хорош. Чистота влияет на выход годных чипов.
То есть да - эти калоши в СССР были очень передовые для 1980х раз сумели произвести компонент уровня 2000х - то есть опережали на 20 лет Запад. Но 20 лет уже прошли. Теперь это уже устаревший но всё ещё годный продукт.
Двойная экспозиция тоже не гостайна и не требует особой гениальности тем более что ПО для этого можно и украсть. так как это используется повсеместно рассчёт разведённых матриц не сильно секретен.
С производством же оборудования ситуация такова что это последнее что может произвести даже Китай. Потому что дальше требуется скачок в знаниях и технологиях.
То есть даже под эмбарго при желании в России можно на китайском оборудовании создать производство 28 нм чипов. Это будет технология иммерсивная ( где жидкостный компонент отечественный - спасибо предкам), аргоновая, с двойным экспонированием.
А вот дальше уже очень серьёзные трудности. И закрытый клуб.
Впрочем 28 нм это Helio X10, это память DDR4 2133 это AMD Bulldoser то есть это уровень очень хороший для например 2013 года. Это и серверное оборудование на уровне 2013 года.
Правда тут нужны ядра а не то выйдет Эльбрус-8СВ
То есть это то что сделать можно в РФ - и я не раз об этом говорил.
22 нм - уже нужно оборудование которое производит только три страны в мире Нидерланды, США и Япония.
20 нм - уже нужные научные знания о FinFET а это технология секретная во многих моментах. нужны совсем другие фоторезисты. которые могут делать только четыре страны в мире. К клубу присоеденяется Британская Империя. Фтористый водород по советской технологии делается ещё в КНР и Южной Корее.
Да в Китае есть производство на 20 нм - но оно на импортном оборудовании. И только благодаря тому что китайских инженеров удалось обучить в США и Японии.
16 нм - это просто искусственный промежуток.
14 нм. - это общедоступная но только для 1 мира технология.
оборудование для неё производят только ASML и Nikon. Компоненты Япония, США и Британская Империя.
Это самая оправданная технология - потому что ниже её резко растут затраты и сложность и разные фирмы подходят к разному их решению. А так же начинается сплошная ложь. Чипы Самсунга врут после 18 нм. Занижая от ITRS их реальные параметры. Но дальше начинают врать все.
Ибо дальше происходит следующий технологический переход. Такой же какой был после 45 нм. А и куда серьёзней по сложности.
Собственно для функционирования страны меньше 14 нм и не нужно - у неё и так будет передовая техника.
Это например процессоры начала этого года Rocket Lake это большинство чипов в современных смартфонах - а это самая требовательная отрасль.
Дальше начинается мрак полный.
Большинство фирм не имеют научных знаний что бы на ArF что то сделать - меньше 14 нм ITRS это могут только Intel и TSMC при этом 12 нм TSMC маркетинговая ложь.
А раз так то только ULV литография, а она не долговечная, и производит литографы только ASML - полная монополия.
Фоторезисты к ним производит только три фирмы в мире - две японские и одна американская. При чем обьёмы американской ориентированы на США. А та контора что призводит фоторезист в США и там имеет долю Самсунг производит его только на 12 нм и больше. Хотя для ULV. он не достатоно чистый. Если есть желание любой ценой получит чип меньше можно - но выход годных .....
Поэтому с 2014 года уже семь лет рынок держится только на маркетинговой лжи.
И да - это конец этой истории - ибо не может вечно продолжаться миниатюризация и без макетологов она не была бы такой линейной.
Был бы скачок в 1998 сразу на 90 нм (2003), потом скачок в 2002 сразу на 45 нм (2007), потом скачок в 2008 сразу на 28 нм (2011), потом в в 2012 скачок сразу на 14 нм (2014) ну а потом началось бы то тягомотное что сейчас.
Они в 1998 году задержали развитие на 5 лет и внесли промежуточные ступени, потом в 2002 повторили это. В 2008 задержку сделали всего на 3 года потому им нужно было поддерживать красивый график а работа была сложной и отстала на два года. В 2014 заржку удалось сделать на два года. так как сделали обрезанную версию специальо для Китая - то есть вместо 14 нм всего 20 нм. Ну и не только Китая - экономически производить чипы на 20 нм выгоднее - 14 нм чипы за тоже количество транзисторов дороже.
Но вот понимание всего это даёт понимание на сколько индустрия в тупике. И почему был выбран 2020 год для Цирка.
В 2014 году у них кончился ресурс роста. Но было пятилетнее окно. В 2019 оно кончилось - а нового что могло их двигать так и не появилось.
Собственно почему я говорил например о биотехнологях несколько лет назад. То что происходит сейчас просто задержалось на 4 года.
Сценарий 2020 года был должен быть в 2016 году. Была корректировка планов. Но дальше они просто не могли перенести.
Время кончается. Эти четыре года могли что-то изменить. Но я не знаю смогли ли - будет видно позднее. Лично я не верю что смогли - но это вопрос моей веры - а я человек недоверяющий никому даже себе. честный ответ - я не знаю.
Но если бы всё шло по первоначальной задумке вы даже бы не знали что вам колят что-то не то. Самое громкое что вы услышали бы это крик схигумена Сергея, чисто религиозное не согласие. Но не было такой волны научного не согласия. Даже меня быстро бы посадили. Не было бы неосоветского проекта. Так что отличия есть. Но вот я не верю что они повлияют. Ибо они там во власти закусили удила и прут на таран. Это просто как бешеный пёс - его можно только усыпить, а сам он не может успокоиться, даже если хочет. Их взяли за Святое - за Бабки.
Ибо сроки поджимают - надвигается идеальный финансовый ураган. Это вопрос годов - конечно и тут могут быть коррекции но тоже на года. Индустрия чипов и то как ей игрались это одно из них. Собственно почему это можно было вычислить ещё в 1999 году.
А да почему Nikon NSR-S635E лучше чем TWINSCAN NXT:2050i - потому что японцы сделали свой литограф на 15% медленее - но лазер там живёт гораздо дольше, энергопотребление ниже, и оверлей 2,076 а у голландцев 2,52 нм. То есть на четыре атома кремния меньше.
Японский лазер меньшей интенсивности и работает в другом импульсном режиме. И хотя оба декларируют 38 нм как опорные. Японский литограф даёт выход годных существенно выше.